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合作案例

清華大學(xué)采購(gòu)PLUTO-T等離子清洗機(jī) 清華大學(xué)調(diào)研了眾多等離子表面處理設(shè)備，最終選擇了上海沛沅生產(chǎn)的Pluto-T等離子清洗機(jī)/表面處理機(jī)。根據(jù)客戶(hù)的技術(shù)要求，提供了可以滿(mǎn)足老師所有技術(shù)參數(shù)要求的Pluto-T等離子清洗機(jī)/表面處理機(jī)，以下為該設(shè)備的安裝調(diào)試圖。
上海交大采購(gòu)PLUTO-MC沉積鍍膜設(shè)備 2020年12月，上海交通大學(xué)采購(gòu)我司PLUTO-MC沉積鍍膜設(shè)備。該設(shè)備采用13.56MHz射頻，涂覆面積為150*150mm，具備良好的穩(wěn)定性與可重復(fù)性。
電子科技大學(xué)采用Pluto-MD等離子去膠機(jī)進(jìn)行晶圓去膠電子科技大學(xué)已采購(gòu)多臺(tái)等離子設(shè)備，包括PLUTO-T等離子清洗機(jī)，PLUTO-MD等離子去膠機(jī)等，用戶(hù)反饋良好。主要涉及的應(yīng)用有：晶圓光刻膠的去除、電子半導(dǎo)體樣品表面有機(jī)物的去除、多功能微納結(jié)構(gòu)寬帶吸收器的表面處理等等。

新聞中心

企業(yè)新聞| CORPORATE NEWS

: 等離子去膠機(jī)采用了一種非接觸式脫膠技術(shù)

等離子去膠機(jī)是一種利用等離子體技術(shù)進(jìn)行表面清洗和去膠的設(shè)備。其基本原理是通過(guò)氣體放電產(chǎn)生等離子體，這些高能粒子能夠解離化學(xué)鍵、改變分子結(jié)構(gòu)，從而有效去除硅片、玻...
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技術(shù)文章| Technical articles

: 小型等離子清洗機(jī)的優(yōu)勢(shì)與應(yīng)用全景解析

一、小型等離子清洗機(jī)概述它是一種利用等離子體技術(shù)進(jìn)行表面處理的精密設(shè)備，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、醫(yī)療器械、新能源、航空航天等領(lǐng)域。與傳統(tǒng)清洗方式相比，它以低溫、高效、環(huán)保的特點(diǎn)，成為現(xiàn)代工業(yè)表面處理的核心工具之一。其核心優(yōu)勢(shì)在于能在不損傷材料的前提下，實(shí)現(xiàn)納米級(jí)清潔、活化、刻蝕等功能。二、小型等離子清洗機(jī)的核心優(yōu)勢(shì)1.高效清潔能力納米級(jí)清潔：等離子體中的高能粒子可分解有機(jī)物、氧化物等污染物，達(dá)到分子級(jí)清潔效果，適用于光學(xué)鏡片、芯片等高精度器件。無(wú)殘留處理：避免化學(xué)溶劑清洗導(dǎo)致的二次...
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應(yīng)用案例

01 等離子清洗
等離子清洗特點(diǎn)是不分處理對(duì)象的基材類(lèi)型，均可進(jìn)行處理，對(duì)金屬、半導(dǎo)體、氧化物和大多數(shù)高分子材料等都能很好地進(jìn)行超清洗。

圖為PLUTO-T等離子清洗機(jī)對(duì)陶瓷基板上銀氧化層的清洗實(shí)例。
02 等離子去膠
等離子清洗機(jī)可用于晶圓或者電路板表面的光刻膠去除，以及去除光學(xué)元件、半導(dǎo)體元件表面的光阻材料等。

圖為PLUTO-MD等離子去膠機(jī)對(duì)PCB板和硅片的去膠實(shí)例。
03 等離子活化改性
改善粘合力-用于光學(xué)元件、生物醫(yī)學(xué)、封裝領(lǐng)域等；
表面改性-用于高分子材料表面修飾、PDMS微流控芯片鍵合、玻璃等，增強(qiáng)表面粘附性、浸潤(rùn)性、相容性；

圖為PLUTO-M對(duì)線(xiàn)路板、橡膠管和手機(jī)膜的表面改性實(shí)例。
04 等離子刻蝕
等離子刻蝕是干法刻蝕中常見(jiàn)的一種形式，其原理是暴露在電子區(qū)域的氣體形成等離子體，電離氣體原子通過(guò)電場(chǎng)加速時(shí)，會(huì)釋放足夠的力量與表面驅(qū)逐力緊緊粘合材料或蝕刻表面。

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